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光纤激光打标机厂家

激光打标是用激光束在各种不同的物质表面打上的标记。打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化而"刻"出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图案、文字。

激光电源，光纤激光打标机激光电源是为光纤激光器提供动力的装置，其输入电压为AC220V的交流电。安装于打标机控制盒内。

光纤激光器，光纤激光打标机采用进口脉冲式光纤激光器，其输出激光模式好使用寿命长，被设计安装于打标机机壳内。

1“6403”高能钕玻璃激光系统 1964年启动，后从技术上判定热效应是根本性技术障碍，于1976年下马。这一项目对发展高能激光技术有历史贡献是不可忽视的，它使我国激光技术的水平上了一个台阶。其成果主要表现在：

（1）建成了具有工程规模的大口径（120毫米）振荡—放大型激光系统，大输出能量达32万焦耳；改善光束质量后达3万焦耳。

（2）实现了系统技术集成，成功地进行了实验，室内10米处击穿80毫米铝靶，室外2公里距离击穿0.2毫米铝耙，并系统地研究了强激光辐射的生物效应和材料破坏机理。

（3）一次揭示了强光对激光系统本身的光损伤现象和机制。

（4）一次深入和理解激光光束质量的重要性和物理内涵，采用了一系列提高光束质量 的创新性技术，如万焦耳级非稳腔激光器、片状激光器、振荡—扫瞄放大式激光系统、尖劈法光束质量诊断等。

（5）激光元器件和支撑技术有了突破性提高，如低吸收高均匀性钕玻璃熔炼工艺、高能脉冲氙气、高强度介质膜、大口径（1.2米）光学精密加工等。

（6）培养和造就 了一批技术骨干队伍。

惯性约束聚变（ICF）激光驱动器——“神光”系列 在王淦昌、王大珩的指导下，和中国工程物理研究院从80年始联合攻关，承担了“神光”系列激光系统的研制和ICF物理实验，取得了国际瞩目的成就。其中，“神光-Ⅰ”激光装置于1986年建成，输出功率2万亿瓦，达到国际同类装置的***水平。“神光-Ⅰ”连续运行8年，在ICF和X射线激光等前沿领域取得了一批国际水平的物理成果。90年代又研制了规模扩大4倍、性能更为***的“神光-Ⅱ”装置，并即将投入运行。1995年，IC F在“863计划”中立项，开始研制跨世纪的巨型激光驱动器——“神光-Ⅲ”装置，总体设 计和关键技术研究已取得一系列高水平的成果。